光掩膜(光掩膜)

计算机常识中为什么制造CPU需要精确的掩膜?掩膜是制造芯片的十分重要的工艺。英特尔公司的方法是用覆铬的石英掩膜制造每一个芯片层。采用光刻法、腐蚀清洗和类似激光加工的工艺制造出极为精确的“图案”——晶体管及其电路。芯片非常薄,导线非常宽。世界上的第一块大规模集成电路芯片就是上面那个图片,叫4004,是英特尔公司在1971年研制生产的。上面的电路有12微米宽(0.01

计算机常识中为什么制造CPU需要精确的掩膜?

掩膜是制造芯片的十分重要的工艺。英特尔公司的方法是用覆铬的石英掩膜制造每一个芯片层。采用光刻法、腐蚀清洗和类似激光加工的工艺制造出极为精确的“图案”——晶体管及其电路。芯片非常薄,导线非常宽。世界上的第一块大规模集成电路芯片就是上面那个图片,叫4004,是英特尔公司在1971年研制生产的。上面的 电路有12微米宽(0.012毫米)。2001年底,当时世界的先进加 工工艺已能够达到仅有0.13微米宽(0.00013毫米),也就仅仅 是一根头发丝直径的1/760;到了 2008年,芯片制造已经进入了纳米(毫微米)时代。要生产这么精密的产品,一定需要特别清洁的环境,它要求生产车间要比医院的手术室里还要清洁许多倍。为了保持这样清洁的环境,芯片制造车间里的空气每分钟需要换10次。 而且那里允许使用黄颜色的灯光,因为使用白灯在生产过程中都可能会对芯片造成损坏。

如何通过cpu架构文档生成光刻掩膜版实例

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